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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供能够使等离子体处理稳定化的等离子体处理装置、分析装置和分析程序。作为一个方式的等离子体处理装置，能够在第一高频电源和第二高频电源各自产生脉冲、且匹配器控制所述第二高频电源的负载侧的阻抗的同时执行等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：计算部，其用于获取基于不同的设定参数使所述第一高频电源产生连续脉冲、且使所述第二高频电源产生间歇脉冲时的对应的反射波的功率，计算表示反射波的状态的指标值；和确定部，其用于基于计算出的指标值各自的偏差，确定对所述第一高频电源和所述第二高频电源指定的设定参数，并且导出从计算用于所述匹配器的控制的指标值时的计算对象排除的范围。
主权项：1.一种等离子体处理装置，其能够在第一高频电源和第二高频电源各自产生脉冲、且匹配器控制所述第二高频电源的负载侧的阻抗的同时执行等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：计算部，其用于获取基于不同的设定参数使所述第一高频电源产生连续脉冲、且使所述第二高频电源产生间歇脉冲时的对应的反射波的功率，计算表示反射波的状态的指标值；和确定部，其用于基于计算出的指标值各自的偏差，确定对所述第一高频电源和所述第二高频电源指定的设定参数，并且导出从计算用于所述匹配器的控制的指标值时的计算对象排除的范围。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置、分析装置和分析程序
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