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申请/专利权人：北京波粒新为科技有限公司
摘要：本发明提供了一种硅片缺陷检测装置及检测方法，包括表面检测相机、内部检测相机、挡板和光源模块，挡板的背面镀有漫反射涂层，挡板设置在硅片的上方，光源模块设置在挡板设有漫反射涂层的一侧，光源模块与硅片之间倾斜设置，光源模块与挡板之间设有缝隙，表面检测相机和内部检测相机设置在挡板的上方，表面检测相机通过光源模块与挡板之间的缝隙垂直向下扫描硅片，内部检测相机垂直向下扫描挡板未设置漫反射涂层一侧的硅片，从光源模块发出两道光束，一道光束照射在挡板表面的漫反射涂层上，另一道光束照射在挡板与硅片的缝隙处。本发明可以同时检测硅片内部缺陷与硅片表面缺陷，提高产线的空间利用率，检测结果相对独立。
主权项：1.一种硅片缺陷检测装置，其特征在于，包括表面检测相机、内部检测相机、挡板和光源模块，所述挡板的背面镀有漫反射涂层，所述挡板设置在硅片的上方，所述光源模块设置在所述挡板设有所述漫反射涂层的一侧，所述光源模块与所述硅片之间倾斜设置，所述光源模块与所述挡板之间设有缝隙，所述表面检测相机和所述内部检测相机设置在所述挡板的上方，所述表面检测相机通过所述光源模块与所述挡板之间的缝隙垂直向下扫描所述硅片，所述内部检测相机垂直向下扫描所述挡板未设置所述漫反射涂层一侧的所述硅片，从所述光源模块发出两道光束，一道光束照射在所述挡板表面的所述漫反射涂层上，另一道光束照射在所述挡板与所述硅片的缝隙处。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京波粒新为科技有限公司 一种硅片缺陷检测装置及检测方法
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