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一种光刻胶的匀胶方法及匀胶装置 

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申请/专利权人:华引芯(武汉)科技有限公司;华引芯(张家港)半导体有限公司

摘要:本申请提供一种光刻胶的匀胶方法及匀胶装置,光刻胶的匀胶方法包括以下步骤:提供一晶圆;将晶圆设置在一旋转载台上;将第一喷嘴对准晶圆的中心,使旋转载台具有第一转速,并利用第一喷嘴向晶圆喷涂第一剂量的丙二醇甲醚醋酸酯;将第二喷嘴对准晶圆的中心,使旋转载台具有第二转速,并利用第二喷嘴向晶圆喷涂第二剂量的光刻胶,光刻胶溶于丙二醇甲醚醋酸酯;其中,第一转速为a,第二转速为b,第一剂量为c,第二剂量为d,a<b10,c>d3。本申请实施例提供的光刻胶的匀胶方法及匀胶装置,能够实现以利用更低的旋转速度和更少的光刻胶用量,使光刻胶较好地覆盖晶圆,并降低生产制造成本,减少生产废料,有利于环保。

主权项:1.一种光刻胶的匀胶方法,其特征在于,所述光刻胶的匀胶方法包括以下步骤:提供一晶圆;将所述晶圆设置在一旋转载台上;将第一喷嘴对准晶圆的中心,使所述旋转载台具有第一转速,并利用所述第一喷嘴向所述晶圆喷涂第一剂量的丙二醇甲醚醋酸酯;将第二喷嘴对准晶圆的中心,使所述旋转载台具有第二转速,并利用所述第二喷嘴向所述晶圆喷涂第二剂量的光刻胶,所述光刻胶溶于丙二醇甲醚醋酸酯;其中,所述第一转速为a,所述第二转速为b,所述第一剂量为c,所述第二剂量为d,a<b10,c>d3。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华引芯(武汉)科技有限公司 华引芯(张家港)半导体有限公司 一种光刻胶的匀胶方法及匀胶装置

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