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申请/专利权人：北京化工大学
摘要：硅IV酞菁‑季铵盐在作为光动力‑阳离子联合抗菌涂层中的应用，应用步骤如下：季铵盐化的壳聚糖和氨基化的硅IV酞菁以摩尔比1：2混合，再加入京尼平，得到混合溶液，所述的京尼平的浓度为0.5mgmL～30mgmL；将表面修饰氨基的片材置于上述混合溶液中进行反应，得到硅IV酞菁‑季铵盐涂层修饰的片材。硅IV酞菁‑季铵盐涂层实现了光动力‑阳离子的联合抗菌效果，弥补了仅凭阳离子接触抗菌在细菌感染严重时不能有效杀灭所有细菌的问题，还提升了非阳离子型光敏剂的抗菌效率。
主权项：1.硅IV酞菁-季铵盐在作为光动力-阳离子联合抗菌涂层中的应用，其特征在于，应用步骤如下：1季铵盐化的壳聚糖和氨基化的硅IV酞菁以摩尔比1∶2混合，再加入京尼平，得到混合溶液，所述的京尼平的浓度为0.5mgmL～30mgmL；2将表面修饰氨基的片材置于步骤1的混合溶液中进行反应，得到硅IV酞菁-季铵盐涂层修饰的片材。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京化工大学 硅（IV）酞菁-季铵盐在作为光动力-阳离子联合抗菌涂层中的应用
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