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申请/专利权人：湖南普照信息材料有限公司
摘要：本发明公开了一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法，其中，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面镀有一层氧化薄膜，所述涂布烘烤方法包括：旋转玻璃基板，将光刻胶在玻璃基板的边缘往中心方向动态滴胶；涂布第一光刻胶，形成第一光刻胶层；烘烤第一光刻胶层，使第一光刻胶层成膜；在所述第一光刻胶层表面涂布第二光刻胶，形成第二光刻胶层，烘烤第二光刻胶层，采用阶梯升温方式对所述第二光刻胶层进行烘烤，使第二光刻胶层成膜；将烘烤处理过的玻璃基板放入洁净环境中使光刻胶和玻璃基板降至室温；第一稀释比例R1大于第二稀释比例R2。本发明提供的厚层光刻胶的涂布烘烤方法，能够获得厚度大、胶面均匀、感光性好的厚层光刻胶。
主权项：1.一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面镀有一层氧化薄膜，其特征在于，所述涂布烘烤方法包括：旋转玻璃基板，将光刻胶在玻璃基板的边缘往中心方向动态滴胶；涂布第一光刻胶，形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶的光刻胶原液与稀释剂的体积比为第一稀释比例R1；烘烤第一光刻胶层，采用阶梯升温方式对所述第一光刻胶层进行烘烤，使第一光刻胶层成膜；在所述第一光刻胶层表面涂布第二光刻胶，形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶的光刻胶原液与稀释剂的体积比为第二稀释比例R2；烘烤第二光刻胶层，采用阶梯升温方式对所述第二光刻胶层进行烘烤，使第二光刻胶层成膜；将烘烤处理过的玻璃基板放入洁净环境中使光刻胶和玻璃基板降至室温；所述第一稀释比例R1大于第二稀释比例R2。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖南普照信息材料有限公司 一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法
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