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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司

摘要：本发明涉及半导体刻蚀技术领域，公开一种刻蚀腔及半导体刻蚀设备。其中刻蚀腔包括腔本体、检测组件和调节组件，腔本体内设置有吸盘，吸盘用于放置待刻蚀本体，吸盘设置有水平检测件；检测组件设置于腔本体上，用于检测腔本体的水平度；调节组件沿腔本体的周向间隔设置有至少三个，调节组件包括一一对应设置的调节驱动件和调节块，调节块的一端设置有调节斜面，调节斜面与腔本体的下端抵接，调节驱动件与检测组件通讯连接，且调节驱动件能驱动调节块移动，以使调节斜面挤压腔本体沿竖直方向移动。本发明调节精度高，自动化程度高，同时还能排除因吸盘安装误差导致的水平倾斜问题。

主权项：1.刻蚀腔，其特征在于，包括：腔本体100，其内设置有吸盘110，所述吸盘110用于放置待刻蚀本体1，所述吸盘110设置有水平检测件111；所述吸盘110通过调平组件设置于所述腔本体100，所述调平组件用于在所述水平检测件111检测到所述吸盘110不水平时，调节所述吸盘110的水平度；检测组件200，设置于所述腔本体100上，用于检测所述腔本体100的水平度；调节组件300，沿所述腔本体100的周向间隔设置有至少三个，所述调节组件300包括一一对应设置的调节驱动件310和调节块320，所述调节块320的一端设置有调节斜面321，所述调节斜面321与所述腔本体100的下端抵接，所述调节驱动件310与所述检测组件200通讯连接，且所述调节驱动件310能驱动所述调节块320移动，以使所述调节斜面321挤压所述腔本体100沿竖直方向移动；在通过所述检测组件（200）和所述调节组件（300）将所述腔本体（100）调整至水平后，若所述水平检测件（111）检测到所述吸盘（110）未处于水平状态，所述调平组件根据所述水平检测件（111）的检测结果对所述吸盘（110）进行水平调节；所述检测组件200包括至少三个不在同一条直线上的高度检测件，所述高度检测件用于检测所述腔本体100的水平高度；所述调节组件300与所述高度检测件一一对应设置，且所述调节组件300设置于与其对应的所述高度检测件的正下方。

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