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申请/专利权人：新毅东(北京)科技有限公司
摘要：提供了一种光刻机的工艺程序设置方法。该光刻机的工艺程序设置方法包括：设置所述光刻机主控系统中曝光业务相关的工艺程序基本参数，所述工艺程序基本参数包括对每个曝光区域各个曝光业务公共的曝光区域信息；以及，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数。这样，通过将每个曝光区域对于各个曝光业务公共的工艺程序基本参数和对于各个曝光业务特定的曝光区域具体参数分开设置并关联，提升了曝光区域信息针对不同曝光业务的独立性、复用性、封装性和可扩展性。
主权项：1.一种光刻机的工艺程序设置方法，包括：设置所述光刻机主控系统中曝光业务相关的工艺程序基本参数，所述工艺程序基本参数包括对每个曝光区域各个曝光业务公共的曝光区域信息；以及基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 新毅东(北京)科技有限公司 光刻机的工艺程序设置方法
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