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申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司
摘要：一种用于保护静电夹盘表面的假基片及半导体处理系统，所述静电夹盘具有冷却气体孔，所述冷却气体孔在所述静电夹盘表面具有第一投影，所述假基片包括：假基片本体；清洁孔，贯穿所述假基片本体的厚度，且所述清洁孔在静电夹盘的表面具有第二投影，所述第二投影与第一投影部分重叠。所述半导体处理系统在不开腔的情况下，能够清理冷却气体孔内表面的污染物，且保证所述静电夹盘的表面不受损伤。
主权项：1.一种用于保护静电夹盘表面的假基片，其特征在于，所述静电夹盘具有冷却气体孔，所述冷却气体孔在所述静电夹盘表面具有第一投影，所述假基片包括：假基片本体；清洁孔，贯穿所述假基片本体的厚度，且所述清洁孔在静电夹盘的表面具有第二投影，所述第二投影与第一投影部分重叠。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 用于保护静电夹盘表面的假基片及半导体处理系统
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