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申请/专利权人：福建中安高新材料研究院有限公司
摘要：本申请提供了一种铜钼金属膜蚀刻液及其应用方法和显示面板，该蚀刻液包括以下质量百分含量的各组分：过氧化氢：10％～30％；无机酸：5％～20％；蚀刻调节剂：0.5％～2％；水：60％～80％；其中，蚀刻调节剂包括乙二胺四丙酸和铬酸钾。该铜钼金属膜蚀刻液不仅具有良好的稳定性，并且对金属铜和金属钼具有较为均衡的蚀刻速率，采用该蚀刻液对铜钼金属膜进行蚀刻能够消除钼的残留，达到良好的蚀刻效果。
主权项：1.一种铜钼金属膜蚀刻液，其特征在于，包括以下质量百分含量的各组分：过氧化氢：10％～30％；无机酸：5％～20％；蚀刻调节剂：0.5％～2％；水：60％～80％；所述蚀刻调节剂包括乙二胺四丙酸和铬酸钾，所述乙二胺四丙酸和所述铬酸钾的质量比为1：0.1～5；所述蚀刻调节剂还包括邻二氮菲，所述乙二胺四丙酸与所述邻二氮菲的质量比为1：0.1～2；所述无机酸包括硝酸、硫酸和盐酸中的一种或多种，且所述铜钼金属膜蚀刻液中的硝酸根离子的质量与所述乙二胺四丙酸和所述邻二氮菲的质量之和的比值小于或等于0.01。
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权利要求：
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