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申请/专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
摘要：本发明提供一种液晶面板含铜叠层薄膜蚀刻液及其应用，所述蚀刻液包括主剂和辅剂，所述主剂和辅剂中金属铜缓蚀剂均为氨基咔唑类金属缓蚀剂。在本发明中选用氨基咔唑类金属缓蚀剂作为主剂和辅剂中的金属缓蚀剂，降低了产品成本，而且该类缓蚀剂使得蚀刻液对IGZO的电学性能无影响，蚀刻效果更好。
主权项：1.一种液晶面板含铜叠层薄膜蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液包括主剂和辅剂，所述主剂和辅剂中金属铜缓蚀剂均为氨基咔唑类金属缓蚀剂；所述主剂以其总质量为100％计，由如下组分组成： 余量为水；所述辅剂以其总质量为100％计，由如下组分组成： 余量为水；所述有机酸为丁二酸和或甘氨酸；所述氨基咔唑类金属缓蚀剂为9-氨基咔唑；所述双氧水稳定剂选自苯基脲、对羟基苯基脲、对氨基苯基脲、硫脲、脲、对羟基苯磺酸或对羟基苯磺酸钠中的任意一种或至少两种的组合；利用所述蚀刻液进行蚀刻时，以主剂的重量为100％计，所述辅剂的添加量为2.5％。
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权利要求：
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