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一种半导体12寸MES系统自动调整光刻机Chuck参数的方法 

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申请/专利权人:上海哥瑞利软件股份有限公司

摘要:本发明提供一种半导体12寸MES系统自动调整光刻机Chuck参数的方法,其特征在于:设置APC系统和EAP系统,APC系统与MES系统通信连接,EAP系统与联机设备、ADICD设备、MES系统、APC系统分别通信连接;联机设备包括光刻机;该方法包括以下步骤:1光刻机通过MES系统和APC系统自动获取chuckleveling参数,并根据所获取的chuckleveling参数自动调整chuck;2晶圆曝光后,通过EAP系统自动反馈量测数据至APC系统;3APC系统根据所反馈的量测数据自动计算chucklevelingoffset,并将计算调整后的chuck参数反馈到MES系统。

主权项:1.一种半导体12寸MES系统自动调整光刻机Chuck参数的方法,其特征在于:设置APC系统和EAP系统,所述APC系统与MES系统通信连接,所述EAP系统联机光刻设备、ADICD量测设备、所述MES系统、所述APC系统分别通信连接;该方法包括以下步骤:1光刻机通过所述MES系统和所述APC系统自动获取chuckleveling参数,并根据所获取的chuckleveling参数自动调整chuck;2晶圆曝光后,通过所述ADICD量测设备由所述EAP系统自动反馈量测数据至所述APC系统;3所述APC系统根据所反馈的量测数据自动计算chucklevelingoffset,并将计算调整后的chuck参数反馈到所述MES系统。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海哥瑞利软件股份有限公司 一种半导体12寸MES系统自动调整光刻机Chuck参数的方法

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