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申请/专利权人:英特尔公司
摘要:通过控制晶体管栅极剖面调制芯片性能。一个或多个晶体管可以具有具备不同侧壁斜度的栅极结构。栅极结构可以在纳米片或纳米带或纳米线中的沟道区的堆叠上方,并且不同的栅极剖面可以对应于不同的电特性。具有金属栅极结构的晶体管可以通过例如使用更低的蚀刻功率、更高的蚀刻温度和或更长的蚀刻持续时间策略性地蚀刻栅极结构来调谐,以实现基本上垂直的栅极剖面。
主权项:1.一个或多个装置,包括:第一晶体管,包括通过第一栅极结构的纳米片或纳米线的第一堆叠,其中第一栅极结构的第一侧壁具有第一斜度;和第二晶体管,包括通过第二栅极结构的纳米片或纳米线的第二堆叠,其中第二栅极结构的第二侧壁具有与第一斜度相差至少五度的第二斜度。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 英特尔公司 通过控制晶体管栅极剖面调制芯片性能
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