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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司
摘要：本发明涉及半导体去胶技术领域，公开了一种用于辅助去胶的双向射频装置，包括反应腔室，反应腔室内顶壁和内底壁上均固定连接有射频电源，反应腔室的一侧设有氧气输送口，反应腔室的底部设有相互连通的输气管，输气管的底部固定连接有安装座，安装座的顶部设有与输气管连通的进气口，安装座内分别设有与进气口连通的第一气道、第二气道和第三气道，输气管内滑动连接有限位管，限位管的顶部设有输气口，且限位管的两侧靠底部均设有与输气口连通的排气口，此用于辅助去胶的双向射频装置，可确保气体在反应腔室内有足够的时间进行反应，同时使等离子体在被排出时，有足够的冲击力，对光刻胶进行轰击，提高对光刻胶的去除速度。
主权项：1.一种用于辅助去胶的双向射频装置，包括反应腔室（1），所述反应腔室（1）内顶壁和内底壁上均固定连接有射频电源（11），所述反应腔室（1）的一侧设有氧气输送口（12），所述反应腔室（1）的底部设有相互连通的输气管（2），其特征在于：所述输气管（2）内壁设有螺纹槽（21），所述输气管（2）的底部固定连接有安装座（3），所述安装座（3）的顶部设有与输气管（2）连通的进气口（31），所述安装座（3）内分别设有与进气口（31）连通的第一气道（32）、第二气道（33）和第三气道（34）；所述输气管（2）内滑动连接有限位管（4），所述限位管（4）的顶部设有输气口（41），且限位管（4）的两侧靠底部均设有与输气口（41）连通的排气口（42），所述限位管（4）上设有安装槽（46），所述安装槽（46）内转动连接有外螺纹管（5），且外螺纹管（5）与螺纹槽（21）互相啮合，所述外螺纹管（5）内壁与安装槽（46）内壁之间固定连接有扭簧A（51）。
全文数据：
权利要求：
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