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申请/专利权人：北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
摘要：本申请提供一种沉积设备，包括：工艺腔室；承载台，设置在所述工艺腔室内，用于承载晶圆；以及进气组件，用于向所述工艺腔室内通入气体，包括设置在所述承载台上方且与所述晶圆位置对应的第一进气头和环绕所述第一进气头周侧的第二进气头，其中，所述第一进气头用于向所述工艺腔室内通入反应气体，以及所述第二进气头用于向所述工艺腔室内通入辅助气体。本申请提供的沉积设备可以减小工艺腔室内不同区域反应气体的浓度差，提高沉积膜的厚度均匀性。
主权项：1.一种沉积设备，用于膜层沉积，其特征在于，包括：工艺腔室；承载台，设置在所述工艺腔室内，用于承载晶圆；以及进气组件，用于向所述工艺腔室内通入气体，包括设置在所述承载台上方且与所述晶圆位置对应的第一进气头和环绕所述第一进气头周侧的第二进气头，其中，所述第一进气头用于向所述工艺腔室内通入反应气体，以及所述第二进气头用于向所述工艺腔室内通入辅助气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司 一种沉积设备
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