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一种电离层垂斜测一体化探测时序设置方法 

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申请/专利权人:中国电波传播研究所(中国电子科技集团公司第二十二研究所)

摘要:本发明公开了一种电离层垂斜测一体化探测时序设置方法,包括如下步骤:步骤1,启动电离层垂斜测一体化设备,配置电离层常规探测和加密探测参数;步骤2,加载常规探测参数,启动电离层常规探测流程;步骤3,判断电离层是否发生扰动:若是,进入步骤4;若否,继续开展常规探测;步骤4,启动电离层加密探测流程;步骤5,判断电离层扰动是否结束。本发明所公开的设置方法,提供了一种电离层垂斜测一体化探测时序,可同步实现电离层垂测和斜测,具有探测信息多、探测时效性高、探测参数配置灵活等特点。

主权项:1.一种电离层垂斜测一体化探测时序设置方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,启动电离层垂斜测一体化设备,配置电离层常规探测和加密探测参数,包括探测周期、工作模式和信号频率;步骤2,加载常规探测参数,启动电离层常规探测流程;步骤3,收集并处理电离层垂、斜测数据,判断电离层是否发生扰动:若是,进入步骤4;若否,继续开展常规探测;步骤4,加载加密探测参数,启动电离层加密探测流程;步骤5,判断电离层扰动是否结束:若是,转入步骤2;若否继续开展加密探测。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国电波传播研究所(中国电子科技集团公司第二十二研究所) 一种电离层垂斜测一体化探测时序设置方法

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