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申请/专利权人：南京工业大学
摘要：本发明涉及一种使用silica和APTES在溶液相中制备金纳米螺旋线的方法，属于纳米材料合成领域。该方法在室温条件下，强配体巯基配体作为结构诱导剂来控制纳米线在一维方向的生长，利用APTES对silica表面进行氨基化处理，逐步添加配体、金前驱体和还原剂后，在溶液相中合成了金纳米螺旋线。该方法材料易得，操作简单，获得的金纳米螺旋线螺旋的直径和螺距，组成螺旋的单根纳米线的粗细都保持均一。另外，螺旋线的螺旋直径、螺距可以通过silica尺寸的增加而增加。该发明提供了一种简化的溶液相合成方法合成金螺旋线，实现了调控螺旋直径和螺距的手段。
主权项：1.一种使用二氧化硅小球在溶液相中合成金纳米螺旋线的方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：二氧化硅小球silica的制备：L-精氨酸和环己烷混合溶液加热至一定温度后，加入正硅酸乙酯TEOS，搅拌12-20h后，得到20nm的silica溶液，供后续步骤使用；经过多轮生长合成的不同尺寸的silica，45nm、60nm、100nm或260nm的silica均可供后续使用；步骤2：silica表面氨基化：将步骤1中制备好的silica用乙醇离心清洗，也可不离心清洗直接使用，随后向silica溶液中添加浓度0.5mM-0.025mM的3-氨基丙基三乙氧基硅烷溶液APTES，充分混合并孵育0.5h-24h，APTES配制时使用纯水配制、乙醇配制或水和乙醇体积比1:1配制；步骤3：金纳米螺旋线的制备：向步骤2中孵育好的silica分别加入乙醇配制的巯基配体0.2mM-8.25mM，水和乙醇体积比为1:1配制或乙醇配制的金前驱体氯金酸HAuCl415.3mM，纯水配制的还原剂L-抗坏血酸L-AA9.46×10-3M-1.89×10-1M进行生长1h-3h；巯基配体、金前驱体与还原剂的体积比为1:1:1，生长液的最终浓度为0.06mM～2.75mM巯基配体，5.1mM金前驱体氯金酸和3.2×10-3M-6.3×10-2M还原剂L-抗坏血酸，最终溶液中VH2OVEtOH在2.41:1-1:5.13之间，生长后乙醇清洗去除多余生长液。
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权利要求：
百度查询： 南京工业大学 一种使用二氧化硅小球在溶液相中合成金纳米螺旋线的方法
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