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申请/专利权人：三井化学株式会社
摘要：一种防护膜组件5，其具有配置防护膜11的框体12和配置于框体12的掩模用粘着剂层13，在从该掩模4的背面对粘着剂层13的与石英制掩模4的贴附部分S1照射2分钟氙Xe准分子灯之后将防护膜组件5剥离时，粘着剂层13的残留率粘着剂层13在石英制掩模4上的残留面积粘着剂层13的贴附部分S1的面积为0.001～5.0％。
主权项：1.一种防护膜组件，具有配置防护膜的框体和配置于所述框体的掩模用粘着剂层，当对所述粘着剂层的与石英制掩模的贴附部分从所述掩模的背面照射2分钟氙即Xe准分子灯光之后将所述防护膜组件剥离时，所述粘着剂层的残留率、即所述粘着剂层在所述掩模上的残留面积所述粘着剂层的贴附部分的面积为0.001～5.0％。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三井化学株式会社 防护膜组件、曝光原版和曝光装置以及防护膜组件的制作方法和掩模用粘着剂层的试验方法
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