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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质。该基片处理装置包括：输送至少一个作为处理对象的基片的输送装置；输送控制部，其使输送装置进行输送基片的正常输送和以比正常输送高的定位精度输送基片的高精度输送；预热控制部，其根据需要使输送装置进行不同于正常输送和高精度输送的预热动作；以及必要性判断部，其在输送装置的停止状态的持续时间超过预先设定的基准时间时，在接近高精度输送的开始时刻的情况下判断为需要预热动作。本发明能够有效提高基片相对于处理位置的定位精度。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：能够对作为处理对象的基片进行处理的至少一个处理单元；和输送装置，其包括：保持所述基片的臂；第一可动部，其使所述臂沿通过所述处理单元的外部的第一线移动；使所述臂沿第二线移动的第二可动部；和改变所述第二线相对于所述第一线的角度的第三可动部，所述输送装置设置在设置于所述至少一个处理单元的外部的输送室内，将至少一个所述基片输送到所述至少一个处理单元；输送控制部，其使所述输送装置进行输送所述基片的正常输送和以比所述正常输送高的定位精度输送基片的高精度输送；预热控制部，其根据需要使所述输送装置进行不同于所述正常输送和所述高精度输送的预热动作，当执行所述预热动作时，所述预热控制部使所述第一可动部、所述第二可动部和所述第三可动部在所述输送室内动作，以使得所述臂不进入所述处理单元；以及必要性判断部，其在所述输送装置的停止状态的持续时间超过预先设定的基准时间时，在接近所述高精度输送的开始时刻的情况下判断为需要预热动作。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、基片处理方法和存储介质
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