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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：示例性基板处理系统可包括腔室，所述腔室包括主体。主体可具有一个或多个侧壁。所述一个或多个侧壁可限定开口。主体可限定内部区域。多个基板支撑销可以设置在内部区域内。多个电离器可以耦接到主体的一个或多个侧壁。多个电离器中的每一者的光源可以朝向限定在一个或多个侧壁中的开口定向。
主权项：1.一种基板处理系统，包括：腔室，所述腔室包括具有一个或多个侧壁的主体，其中：所述一个或多个侧壁限定开口；和所述主体限定内部区域；和多个基板支撑销，所述多个基板支撑销设置在所述内部区域内；和多个电离器，所述多个电离器耦接到所述主体的所述一个或多个侧壁，其中：所述多个电离器中的每一者的光源朝向限定在所述一个或多个侧壁中的所述开口来定向。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于减少静电放电的腔室电离器
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