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基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法及系统 

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申请/专利权人:成都诺为光科科技有限公司

摘要:本发明提供一种基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法,包括检测仪光路垂直校准;检测仪对晶圆标样逐点扫描,捕获每一点的反射光子并统计数量,获取判断阈值参数;检测仪对待测晶圆逐点扫描,捕获每一点的反射光子并统计数量,获取合格判断参数;判断异常区域并统计异常区域数量,设待测晶圆的异常区域允许值、合格允许偏差和合格判断算法;基于判断阈值参数、合格判断参数、异常区域数量、异常区域允许值、合格允许偏差和合格判断算法,判断待测晶圆表面胶平整度是否合格。解决了现有技术中因通过拍照和图像处理技术对晶圆表面胶平整度进行检测,导致检测精度无法达到检测标准和获取的照片不能用来判断晶圆表面光刻胶是否平整的技术问题。

主权项:1.一种基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:对检测仪进行光路垂直校准;控制所述检测仪以第一设备参数对与待测晶圆具有相同光刻胶工艺的晶圆标样进行逐点扫描,并捕获所述晶圆标样上每一点的第一反射光子,基于所述晶圆标样上每一点的所述第一反射光子的数量,获取判断阈值参数;控制所述检测仪以所述第一设备参数对待测晶圆进行逐点扫描,并捕获所述待测晶圆上每一点的第二反射光子,基于所述待测晶圆上每一点的所述第二反射光子的数量,获取合格判断参数;根据所述判断阈值参数和所述待测晶圆的每一点的所述第二反射光子的数量判断所述待测晶圆的异常区域,并统计所述异常区域的数量;设置所述待测晶圆的异常区域允许值、合格允许偏差以及合格判断算法;其中,所述异常区域允许值表示所述待测晶圆上允许存在的异常区域的数量的最大值;基于所述判断阈值参数、合格判断参数、异常区域的数量、异常区域允许值、合格允许偏差以及所述合格判断算法,判断所述待测晶圆表面胶平整度是否合格。

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权利要求:

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