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一种固定吸盘治具 

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申请/专利权人:浙江盾源聚芯半导体科技有限公司

摘要:本发明涉及吸盘技术领域,具体涉及一种固定吸盘治具,包括治具本体,所述治具本体包括用于托载硅环的载面,所述载面上开设有若干吸附环槽,所述吸附环槽的底壁上开设有与气道连通的气孔;所述气道上设有控制该气道通断的阀门;所述气道和气孔之间还设有封板;所述吸盘治具还包括触发构件和复位组件,所述触发构件与封板保持相对固定且其至少部分位于吸附环槽中,所述触发构件被构造为,当硅环放置到载面上时,被硅环覆盖的吸附环槽中的触发构件在硅环的挤压下,推动封板进入第二位置,当移除硅环时,在复位组件的作用下封板复位至第一位置;本方案中,封板的位置状态切换是根据硅环的放置自动进行的,无需人为额外进行操作。

主权项:1.一种固定吸盘治具,包括治具本体,所述治具本体包括用于托载硅环的载面,所述载面上开设有若干同轴设置且直径不同的吸附环槽,其特征在于,所述治具本体还包括若干与吸附环槽一一对应的且相互独立的气道,所述吸附环槽的底部设有与气道连通的气孔;所述气道上设有控制该气道通断的阀门;所述气道和气孔之间还设有封板,所述封板能够相对于气孔在第一位置和第二位置间活动,第一位置下所述封板遮盖住所述气孔,第二位置下,所述封板开启气孔以使气孔和气道保持相连通;所述吸盘治具还包括触发构件和复位组件,所述触发构件与封板保持相对固定且其至少部分位于吸附环槽中,所述触发构件被构造为,当硅环放置到载面上时,被硅环覆盖的吸附环槽中的触发构件在硅环的挤压下,推动封板进入第二位置,当移除硅环时,在复位组件的作用下封板复位至第一位置。

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