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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司
摘要：本发明属于半导体技术领域，公开了一种精确控压的刻蚀设备，包括刻蚀主体、控压环、传动杆、传动环、第一弹性件和调位组件，刻蚀主体包括反应室，控压环设于反应室内，传动杆沿周向间隔设有多个，传动杆的第一端穿设刻蚀主体并与控压环连接；传动环设于刻蚀主体的顶部，传动环朝向刻蚀主体的一侧与传动杆的第二端相抵持；第一弹性件设于传动杆与刻蚀主体之间，调位组件沿周向间隔设有多个，调位组件包括第一限位件和锁紧件，第一限位件与传动环背向刻蚀主体的一侧相抵持。本发明提供的精确控压的刻蚀设备，通过第一限位件的移动调节控压环的位置，锁紧件锁紧限位第一限位件，可以增大作用于待刻蚀产品上的等离子体的密度可调范围，改善刻蚀精度。
主权项：1.一种精确控压的刻蚀设备，其特征在于，包括：刻蚀主体100，包括反应室，所述反应室内能放置待刻蚀产品；控压环200，设于所述反应室内，等离子气体能流经所述控压环200的内环并作用于所述待刻蚀产品上；传动杆300，沿周向间隔设有多个，所述传动杆300的第一端沿轴向滑动穿设所述刻蚀主体100并与所述控压环200连接；传动环400，设于所述刻蚀主体100的顶部，所述传动环400朝向所述刻蚀主体100的一侧与所述传动杆300的第二端相抵持；第一弹性件500，设于所述传动杆300与所述刻蚀主体100之间，所述第一弹性件500使所述传动杆300的第二端始终具有沿轴向朝所述控压环200挤压的趋势；调位组件600，沿周向间隔设有多个，所述调位组件600包括第一限位件610和与所述第一限位件610相对设置的锁紧件620，所述第一限位件610与所述传动环400背向所述刻蚀主体100的一侧相抵持，所述第一限位件610能沿轴向移动以带动所述传动环400沿轴向移动，所述锁紧件620用于锁紧限位所述第一限位件610于所述刻蚀主体100上。
全文数据：
权利要求：
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