首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种基于激光解键合的钽酸锂薄膜SMR器件制备方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:复旦大学

摘要:本发明公开一种基于激光解键合的钽酸锂薄膜SMR器件制备方法。包括以下步骤:在LiTaO3晶圆内形成多孔气泡层,将LiTaO3晶圆与支撑衬底键合;退火使多孔气泡层断裂,从LiTaO3晶圆剥离,在支撑衬底上形成LiTaO3薄膜;对LiTaO3薄膜进行减薄处理;将第一Si衬底与上述形成在支撑衬底表面的LiTaO3薄膜直接键合;利用激光解键合技术,将LiTaO3薄膜转移至第一Si衬底;在形成有LiTaO3薄膜的第一Si衬底内形成多孔气泡层;在LiTaO3薄膜上淀积下电极和布拉格反射层;将第二Si衬底与上述形成在第一Si衬底表面的布拉格反射层直接键合;使得多孔气泡层从第一Si衬底剥离,去除LiTaO3薄膜表面的Si层,使得LiTaO3薄膜下电极布拉格反射层叠层转移至第二Si衬底;在LiTaO3薄膜上形成上电极。

主权项:1.一种基于激光解键合的钽酸锂薄膜SMR器件制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在LiTaO3晶圆内形成多孔气泡层,将晶圆分隔为上层LiTaO3薄膜和下层LiTaO3晶圆;将LiTaO3晶圆与支撑衬底键合;进行热退火处理,使得多孔气泡层从LiTaO3晶圆剥离,从而在支撑衬底上形成LiTaO3薄膜;对LiTaO3薄膜进行减薄处理;进行热退火处理,将第一Si衬底与上述形成在支撑衬底表面的LiTaO3薄膜直接键合,并退火形成稳定的键合对;利用激光解键合技术,将LiTaO3薄膜转移至第一Si衬底;在形成有LiTaO3薄膜的第一Si衬底内形成多孔气泡层;在LiTaO3薄膜上淀积下电极和布拉格反射层;进行热退火处理,将第二Si衬底与上述形成在第一Si衬底表面的布拉格反射层直接键合,并退火形成稳定的键合对;进行热退火处理,使得多孔气泡层从第一Si衬底剥离,再对表面进行抛光处理,去除LiTaO3薄膜表面的Si层,使得LiTaO3薄膜下电极布拉格反射层叠层转移至第二Si衬底;在LiTaO3薄膜上形成上电极。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 复旦大学 一种基于激光解键合的钽酸锂薄膜SMR器件制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。