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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种控制器系统被配置为控制装备，并且包括基于参考状态信号向该装备提供前馈信号的前馈控制器，以及基于该参考状态信号与表示装备实际状态的该装备状态信号之间的差，向该装备提供反馈信号的反馈控制器系统。该反馈控制器系统包括积分器、轨迹生成器和选择器。该反馈控制器系统被配置为在第一控制模式下或在第二控制模式下根据该参考状态操作，其中该反馈控制器系统在该第一控制模式下操作该选择器以选择由该轨迹生成器生成的轨迹生成器输出信号，并且其中该反馈控制器系统在该第二控制模式下操作该选择器，以选择由该积分器生成的积分器输出信号。
主权项：1.一种控制器系统，所述控制器系统被配置为控制装备，包括：-前馈控制器，被配置为基于参考状态信号向所述装备提供前馈信号，以及-反馈控制器系统，被配置为基于所述参考状态信号与表示所述装备的实际状态的装备状态信号之间的差，向所述装备提供反馈信号，-其中所述反馈控制器系统包括积分器、轨迹生成器和选择器，所述选择器被配置为选择性地将由所述轨迹生成器生成的轨迹生成器输出信号和由所述积分器生成的积分器输出信号中的一者输出到被提供至所述装备的所述反馈信号中，-其中所述反馈控制器系统被配置为：在第一控制模式下或在第二控制模式下根据所述参考状态信号进行操作其中所述反馈控制器系统被配置为：在所述第一控制模式下操作所述选择器，以选择由所述轨迹生成器生成的所述轨迹生成器输出信号，并且其中所述反馈控制器系统被配置为：在所述第二控制模式下操作所述选择器，以选择由所述积分器生成的所述积分器输出信号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 光刻装置控制器系统
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