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一种半导体刻蚀设备控制柜 

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申请/专利权人:苏州冠韵威电子技术有限公司

摘要:本发明公开了一种半导体刻蚀设备控制柜,包括柜体、冷却组件、冷却部和温度监测组件,柜体的上端转动连接有第二防护门,柜体的一侧壁上转动连接有第一防护门,柜体的内部设置有控制元件,冷却组件位于柜体的一侧,用于控制柜体内的环境温度,冷却部的数量为多个,分别安装在控制元件的发热部上,冷却部和冷却组件相匹配,用于对控制元件进行单独散热,温度监测组件安装在柜体的内部,用于监测温度,且能够与冷却组件和冷却部配合控制柜体内的环境温度和控制元件的温度。与现有技术相比,本发明的一种半导体刻蚀设备控制柜能够满足控制元件满功率运行时的降温需求,实现精准的过载保护,还不影响其他模块。

主权项:1.一种半导体刻蚀设备控制柜,其特征在于,包括:柜体,所述柜体的上端转动连接有第二防护门,所述柜体的一侧壁上转动连接有第一防护门,所述柜体的内部设置有控制元件;冷却组件,所述冷却组件位于柜体的一侧,用于控制柜体内的环境温度;冷却部,所述冷却部的数量为多个,分别安装在控制元件的发热部上,所述冷却部和冷却组件相匹配,用于对控制元件进行单独散热;温度监测组件,所述温度监测组件安装在柜体的内部,用于监测温度,且能够与冷却组件和冷却部配合控制柜体内的环境温度和控制元件的温度。

全文数据:

权利要求:

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