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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种用于光刻设备的系统包括：衬底台；另一装置；以及至少一个可变形分隔件。衬底台例如晶片台被布置为支撑衬底。该系统可配置为处于第一配置，使得装置的表面面向并邻近衬底和衬底台。至少一个可变形分隔件或者：a当系统处于第一配置时，从衬底台部分地延伸朝向装置的表面；或者b当系统处于第一配置时，从面向并邻近衬底和衬底台的装置的表面部分地延伸朝向衬底台。
主权项：1.一种用于光刻设备的系统，包括：衬底台，被布置为支撑衬底；装置，其中所述系统能够配置为处于第一配置，使得所述装置的表面面向并邻近所述衬底和所述衬底台；以及至少一个可变形分隔件38，46，所述至少一个可变形隔板：a当所述系统处于所述第一配置时，从所述衬底台朝向所述装置的所述表面部分地延伸；或b当所述系统处于所述第一配置时，从所述装置的面向并邻近所述衬底和所述衬底台的所述表面朝向所述衬底台部分地延伸，其中所述至少一个可变形分隔件用于在所述系统处于所述第一配置时减小所述装置与所述衬底台之间的间隙。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于光刻设备的系统
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