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用于晶圆表面粒子层沉积的加工装置及MOCVD设备 

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申请/专利权人:星钥(珠海)半导体有限公司

摘要:本实用新型公开了用于晶圆表面粒子层沉积的加工装置以及MOCVD设备,该加工装置包括:中心区域设置有喷射装置,用于喷射沉积粒子气流的盖板;具有环形结构的气体收集器,气体收集器的内部设置有气流通道,内壁上设置有和气流通道相连通的第一吸气孔,气体收集器用于收集气体收集器的环内的气流;设置在气体收集器的环内,用于承载晶圆的载盘;其中,盖板设置在气体收集器的一端,且气体收集器靠近盖板一侧的端部,与盖板的边缘部位可拆卸的相互封闭连接。本申请中盖板的边缘部位和气体收集器的端部直接可以进行可拆卸的封闭连接,避免污染气体从盖板和气体收集器之间的缝隙泄露流出,提升对污染气体收集的效果。

主权项:1.一种用于晶圆表面粒子层沉积的加工装置,其特征在于,包括:中心区域设置有喷射装置,用于喷射沉积粒子气流的盖板;具有环形结构的气体收集器,所述气体收集器的内部设置有气流通道,内壁上设置有和所述气流通道相连通的第一吸气孔,所述气体收集器用于收集所述气体收集器的环内的气流;设置在所述气体收集器的环内,用于承载晶圆的载盘;其中,所述盖板设置在所述气体收集器的一端,且所述气体收集器靠近所述盖板一侧的端部,与所述盖板的边缘部位可拆卸的相互封闭连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 星钥(珠海)半导体有限公司 用于晶圆表面粒子层沉积的加工装置及MOCVD设备

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