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申请/专利权人：上海华力微电子有限公司
摘要：在本发明提供的一种TEM样品的制备方法，包括：提供一晶圆，所述晶圆上形成有低密度的层间电介质层；截取所述晶圆获得待测样品；在所述待测样品上形成保护膜，以对所述待测样品产生初步的完整性保护；在所述待测样品的目标区域覆盖胶类材料，并对其进行固化工艺，以进一步保护所述待测样品的形貌；在聚焦离子束内进行待测样品减薄；以形成TEM样品。通过上述方法制备TEM样品，替代用电子束辅助沉积方法在待测样品表面做保护层的方式，避免电子束对待测样品的直接辐照，有效改善电子束的大电流对待测样品带来的直接损伤，避免待测样品的形变问题；此方法已经通过实例验证，获得的图像清晰，界面明显，量测精准。
主权项：1.一种TEM样品的制备方法，其特征在于，包括：提供一晶圆，所述晶圆上形成有低密度的层间电介质层；截取所述晶圆，获得待测样品；在所述待测样品上形成保护膜，以对所述待测样品产生初步的完整性保护，其中，所述保护膜包括金属膜和氧化膜，形成所述保护膜的工艺为原子层沉积工艺；在所述待测样品的目标区域进行非接触式覆盖胶类材料，并对其进行固化工艺，以进一步保护所述待测样品的形貌，所述非接触式覆盖是指采用玻璃滴管将配置好的所述胶类材料悬空滴涂在所述待测样品表面；在聚焦离子束内进行待测样品减薄，以形成TEM样品。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力微电子有限公司 TEM样品的制备方法
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