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申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
摘要：本发明公开了一种版图检查DRC方法，首先载入芯片的版图，将所述的版图切分为需要计算周长的最小单元；将所述的最小单元再切分为N个边长为A*B的面积相同大小的子区域；将所有的子区域的周长的初始值置为0；判断所述的子区域内是否存在图形边界线，如存在图形边界线则将周长的初始值由0赋值为1；所有的子区域形成矩阵，计算所有子区域组成的矩阵的周长总和，记为I；将计算得到的周长总和I除以所述子区域的总个数N，为单个子区域的周长值C，即C=IN。本发明通过对版图进行划分并通过计算版图中图形周长的方式精确计算芯片版图的图形密度，并通过计算得到的图形密度准确放置冗余图形，使版图尽可能实现图形密度的均匀，提高工艺过程的良率。
主权项：1.一种版图检查DRC方法，其特征在于：包含如下的步骤：首先载入芯片的版图，将所述的版图切分为需要计算周长的最小单元；将所述的最小单元再切分为N个边长为A*B的面积相同大小的子区域；将所有的子区域的周长的初始值置为0；判断所述的子区域内是否存在图形边界线，如存在图形边界线则将周长的初始值由0赋值为1；所有的子区域形成矩阵，计算所有子区域组成的矩阵的周长总和，记为I；将计算得到的周长总和I除以所述子区域的总个数N，为单个子区域的周长值C，即C=IN。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 版图检查DRC方法
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