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申请/专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
摘要：本发明公开了一种新旧抛光液含比可控的CMP抛光垫、抛光方法及其应用，所述抛光垫的抛光层至少包含：1）在所述抛光垫径向以折线形式相连的径向抛光液传送沟槽，所述径向抛光液传送沟槽每间隔至少4个周向同心圆沟槽角度进行一次偏折，每次偏折后的径向抛光液传送沟槽的宽度变窄、深度变深；2）以相邻的两道径向抛光液传送沟槽为侧边的至少4个周向同心圆沟槽组成的扇形区域。本发明的抛光垫利用复合型沟槽中径向沟槽的角度偏折和宽深变化来控制新旧抛光液在周向同心圆沟槽中的含比，进而提升抛光效果。
主权项：1.一种新旧抛光液含比可控的CMP抛光垫，其特征在于，所述抛光垫的抛光层至少包含：1）在所述抛光垫径向以折线形式相连的径向抛光液传送沟槽，所述径向抛光液传送沟槽每间隔至少4个周向同心圆沟槽角度进行一次偏折，所述径向抛光液传送沟槽每次偏折的角度为20°~55°，每次偏折后的径向抛光液传送沟槽的宽度变窄、深度变深；所述径向抛光液传送沟槽每偏折一次，偏折后的沟槽宽度Wn+1比偏折前的沟槽宽度Wn缩窄5‰~13‰，偏折后的沟槽深度Ln+1比偏折前沟槽深度Ln变深2‰~8‰；2）以相邻的两道径向抛光液传送沟槽为侧边的至少4个周向同心圆沟槽组成的扇形区域；新旧抛光液含比可控在80%~86%。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 万华化学集团电子材料有限公司 一种新旧抛光液含比可控的CMP抛光垫、抛光方法及其应用
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