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申请/专利权人:中山大学
摘要:本发明涉及集成光电子器件和半导体材料技术领域,更具体地,涉及一种在SOI上侧向选区异质外延高质量埋藏式量子阱的方法,本发明在晶向的绝缘衬上硅Silicon‑On‑Insulator,SOI晶圆上用选区异质外延的方式,通过调控III‑V薄膜生长前沿以及InGaAs量子阱在晶面的厚度,将沿取向的高质量埋藏式InGaAsIII‑V量子阱嵌入在均匀侧向III‑V薄膜中,用以实现侧向p‑i‑n结构激光二极管的方法。
主权项:1.一种在SOI上侧向选区异质外延高质量埋藏式量子阱的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:在SOI晶圆上制备用于侧向选区异质外延的侧向沟槽;S2:在所述侧向沟槽上生长III-V族半导体薄膜并控制所述III-V族半导体薄膜在倾斜面的生长速率大于垂直面的生长速率,得到拥有一个垂直面和两个倾斜面的III-V族半导体薄膜生长前沿;S3:在所述III-V族半导体薄膜生长前沿生长量子阱并控制所述量子阱在的倾斜面的生长速率小于垂直面的生长速率,得到埋藏式量子阱。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中山大学 一种在SOI上侧向选区异质外延高质量埋藏式量子阱的方法
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