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申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
摘要：本发明涉及光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化方法。本发明要解决的课题在于，提供一种能够得到透明性高的固化物的光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化法。通过如下的光学材料用1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷能够解决上述课题：将纯化后的1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为500ppm以下。
主权项：1.一种光学材料用组合物，其包含如下的利用下述制造方法制造的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷：将对包含不溶物的纯化前的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷进行纯化而得到的纯化后的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为0.2～340ppm的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷，所述将对包含不溶物的纯化前的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷进行纯化而得到的纯化后的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为0.2～340ppm的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷的制造方法具备下述A工序、B工序、以及C工序，在下述A工序中，将溶剂与含有包含不溶物的纯化前的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷的组合物的总和设为100质量份，所述组合物为10～40质量份，A工序：在含有包含不溶物的纯化前的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷的组合物中添加甲苯或氯仿，使1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷溶解的工序；B工序：将所述不溶物过滤的工序；C工序：使所述溶解的1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷重结晶的工序。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用高纯度1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷及其纯化方法
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