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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：兹描述产生自对准结构的方法，所述自对准结构包含金属硫系化物。某些方法包含以下步骤：于基板特征中形成含金属膜，并将含金属膜暴露于硫系前驱物，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。某些方法包含以下步骤：于基板特征中形成含金属膜；使含金属膜膨胀，以形成柱体；和将柱体暴露于硫系前驱物，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。某些方法包含以下步骤：在基板特征中直接形成金属硫系化物柱体，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。亦描述形成自对准通孔的方法。
主权项：1.一种基板处理方法，包含以下步骤：于基板上形成金属膜，所述基板具有顶表面，且具有至少一个特征形成于所述基板中，所述至少一个特征从所述顶表面延伸进入所述基板达一距离，且所述至少一个特征具有侧壁和底部，所述金属膜形成于所述至少一个特征中；和将所述金属膜暴露于硫系前驱物，以形成金属硫系化物柱体，所述金属硫系化物柱体在所述顶表面上方具有与所述至少一个特征的所述侧壁实质上共面的侧壁，所述硫系前驱物实质上不包含氧。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 形成金属硫系化物柱体的方法
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