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申请/专利权人：荣昌化学制品株式会社
摘要：本申请发明涉及一种用于对使用于极紫外光曝光光源的包括聚羟基苯乙烯polyhydroxystyrene的光致抗蚀剂图案进行坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体，更详细地，涉及一种用于光致抗蚀剂图案的坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体组合物及使用其的图案形成方法，其中，所述工艺液体组合物包括：0.0001至1重量％的碱性物质，0.0001至1重量％的阴离子表面活性剂，及98至99.9998重量％的水。
主权项：1.一种用于光致抗蚀剂图案的坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体，所述光致抗蚀剂包括聚羟基苯乙烯，在使用极紫外光作为光源的光致抗蚀剂图案工艺中，其特征在于，所述工艺液体由：0.001至0.1重量％的阴离子表面活性剂；0.001至0.1重量％的碱性物质；及99.8至99.998重量％的水组成；所述阴离子表面活性剂为选自由聚羧酸盐、磺酸盐、硫酸酯盐或它们的混合物所组成的组中，所述碱性物质为选自由四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或它们的混合物所组成的组中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 荣昌化学制品株式会社 极紫外光刻用工艺液体及使用其的图案形成方法
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