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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：本发明提供了一种用于带电粒子检查装置的带电粒子设备，用于将子射束阵列朝向样品投射，带电粒子设备包括：带电粒子光学元件和检测器。带电粒子光学元件具有上游表面，该上游表面具有用于从带电粒子束产生子射束阵列的多个开口。在带电粒子光学元件中限定了：子射束孔径和监测孔径。子射束孔径延伸穿过带电粒子元件，用于子射束阵列朝向样品的路径，监测孔径延伸穿过带电粒子元件。检测器位于监测孔径中。检测器的至少一部分位于上游表面的下游。检测器测量入射到检测器上的带电粒子束的一部分的参数。
主权项：1.一种用于带电粒子检查装置的带电粒子设备，所述带电粒子检查装置用于向样品投射子射束阵列，所述带电粒子设备包括：上游带电粒子光学元件，包括上游表面，在所述上游表面中限定了穿过所述带电粒子元件的多个孔径，所述多个孔径被配置用于与多个射束的路径对准，所述多个射束包括子射束阵列和监测射束；以及下游带电粒子光学元件，其中限定了多个孔径，所述多个孔径被配置用于与限定在所述上游带电粒子光学元件中的开口对准，所述孔径包括：至少一个子射束孔径，穿过所述带电粒子元件并且被配置用于所述子射束阵列朝向所述样品的位置的路径；以及监测孔径，被配置用于监测所述监测射束；以及检测器，被包括在所述监测孔径内并且被配置为测量对应的所述监测射束的参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子设备、带电粒子评估装置、测量方法以及监测方法
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