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申请/专利权人：西默有限公司
摘要：一种光源包括一个或多个模块，该一个或多个模块一起被配置为产生用于半导体光刻的光束。一种用于维护光源的装置包括预测单元和集成单元。预测单元被配置为：接收多个子特征数据集，每个子特征数据集与光源的唯一性能标准相关联；并且针对每个子特征数据集，评估在预测增量中是否在光源中检测到故障模式。集成单元被配置为：从预测单元接收多个评估；并且针对每个故障模式，基于故障模式的相关联的子特征数据集来确定哪个或哪些性能标准与故障模式相关。
主权项：1.一种用于维护光源的装置，所述光源包括一个或多个模块，所述一个或多个模块一起被配置为产生用于半导体光刻的光束，所述装置包括：预测单元，被配置为：接收多个子特征数据集，每个子特征数据集与所述光源的唯一性能标准相关联；并且针对每个子特征数据集，评估在预测增量中故障模式是否在所述光源中被检测到；以及集成单元，被配置为：从所述预测单元接收所述多个评估；并且针对每个故障模式，基于所述故障模式的相关联的所述子特征数据集来确定哪个或哪些性能标准与所述故障模式相关。
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权利要求：
百度查询： 西默有限公司 半导体光刻中的光源的模块的维护
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