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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种被配置为投射带电粒子的多射束的带电粒子光学装置，装置包括：带电粒子设备，该带电粒子设备在以下之间切换：i操作配置，其中该设备被配置为沿着从多射束的源延伸到样品的操作束路径将多射束投射到所样品，和ii监测配置，其中该设备被配置为沿着从源延伸到检测器的监测束路径将多射束投射到检测器；其中监测束路径沿着操作束路径从所述检查束路径中途转向。
主权项：1.一种带电粒子光学装置，被配置为投射带电粒子的多射束，所述装置包括：带电粒子设备，能够在以下之间切换：i操作配置，其中装置列被配置为沿着从所述多射束的源延伸到样品的操作束路径将所述多射束投射到所述样品，和ii监测配置，其中所述设备被配置为沿着从所述源延伸到检测器的监测束路径将所述多射束投射到所述检测器；其中所述监测束路径沿着所述操作束路径从所述检查束路径中途转向。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子光学装置和投射方法
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