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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种用于校正检查图像误差的改进方法和系统。一种改进的方法包括：当支撑测试晶片的晶片台以第一速度移动时，获取测试晶片上的第一射束位置集合；当晶片台以第二速度移动时，获取测试晶片上与第一射束位置集合相对应的第二射束位置集合；当晶片台以在第一速度到第二速度的速度范围的第三速度移动时，计算射束的射束位置位移；以及基于所计算的射束位置位移来调整射束的射束位置。
主权项：1.一种用于校正检查图像误差的方法，包括：当支撑测试晶片的晶片台以第一速度移动时，获取所述测试晶片上的第一射束位置集合；当所述晶片台以第二速度移动时，获取所述测试晶片上与所述第一射束位置集合相对应的第二射束位置集合；当所述晶片台以在所述第一速度到所述第二速度的速度范围的第三速度移动时，计算射束的射束位置位移；以及基于所计算的所述射束位置位移来调整所述射束的射束位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子检查中的射束位置位移校正
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