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半导体量测聚焦及焦面位置搜索方法、装置、设备及介质 

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申请/专利权人:魅杰光电科技(上海)有限公司

摘要:本申请提供一种半导体量测聚焦及焦面位置搜索方法、装置、设备及介质,应用于自动化半导体量检测设备技术领域,焦面位置搜索方法包括对聚焦潜在区间采用三分法获取聚焦位置,使用m,n两个点将聚焦潜在区间划分为三个子区间,再控制聚焦机构移动到m,n这两个位置,分别取图并通过算法计算图像的清晰度,根据这两个位置点的清晰度评价值判断焦面位置更可能出现的区间,并缩小潜在的焦面位置区间,重复上述过程,直至满足给定的聚焦精度完成聚焦。该焦面位置搜索方法的算法复杂度显著降低,能够显著减少取图数量,加快聚焦速度,显著提升了半导体量检测的精准度和高效性。

主权项:1.一种焦面位置搜索方法,其特征在于,包括:对聚焦潜在区间采用三分法获取聚焦位置;其中,三分法获取聚焦位置的遍历过程包括:确定当前聚焦潜在区间是否已经满足预设的聚焦位置精度阈值;如果满足,则将所述当前聚焦潜在区间的中心位置确定为聚焦的焦面位置;如果不满足,则将所述当前聚焦潜在区间划分为三个子区间,其中将所述当前聚焦潜在区间记为[l,r],第一子区间记为[l,m],第二子区间记为m,n,第三子区间记为[n,r];以及,在划分三个子区间后,分别获取m点和n点位置各自对应的图像及图像清晰度评价值,其中m点和n点位置各自对应的图像清晰度评价值记为fm、fn,若fmfn,则将区间[m,r]重新确定为聚焦位置遍历所需的所述当前聚焦潜在区间,反之则将区间[l,n]重新确定为聚焦位置遍历所需的所述当前聚焦潜在区间。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 魅杰光电科技(上海)有限公司 半导体量测聚焦及焦面位置搜索方法、装置、设备及介质

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