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申请/专利权人：英特尔NDTM美国有限公司
摘要：本实用新型的实施例涉及用于化学机械研磨的清洁装置。本实用新型提出了一种用于化学机械研磨的清洁装置，所述清洁装置包括：基座，所述基座中形成有容纳清洗液的腔室；活塞组件，所述活塞组件的第一端设置于所述腔室中，使得所述活塞组件能够在所述清洗液的作用下移动；以及清洁刷，所述清洁刷设置于所述活塞组件的第二端；其中，所述活塞组件包括贯穿其中的液体通道，从而使得所述清洗液能够通过所述液体通道到达所述活塞组件的第二端，并且与所述清洁刷一起对清洁对象进行清洁。根据本实用新型，能够对用于化学机械研磨的金刚石盘进行适当清洁，从而提高金刚石盘调节效率，延长研磨垫的使用寿命，并且提高化学机械研磨工艺的稳定性。
主权项：1.一种用于化学机械研磨的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：基座，所述基座中形成有容纳清洗液的腔室；活塞组件，所述活塞组件的第一端设置于所述腔室中，使得所述活塞组件能够在所述清洗液的作用下移动；以及清洁刷，所述清洁刷设置于所述活塞组件的第二端；其中，所述活塞组件包括贯穿其中的液体通道，从而使得所述清洗液能够通过所述液体通道到达所述活塞组件的第二端，并且与所述清洁刷一起对清洁对象进行清洁。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 英特尔NDTM美国有限公司 用于化学机械研磨的清洁装置
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