首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种无粘结剂亚中孔高硅FER沸石吸附剂及其制备方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:复榆(张家港)新材料科技有限公司

摘要:本发明涉及一种高硅无粘结剂沸石吸附剂及其制备方法,所述高硅无粘结剂沸石吸附剂的结构特征为具有FER型沸石的结构类型,其氧化硅与氧化铝的摩尔比为261,高硅无粘结剂沸石吸附剂耐压强度为57.6NCM,所述FER型沸石的XRD粉末衍射具有5个特征衍射峰,本发明高硅无粘结剂沸石吸附剂制备方法是将高硅FER沸石原粉与无定形二氧化硅粘结剂混合成型干燥焙烧制成的吸附剂前驱体,于有机胺蒸汽中经水热反应制得。本发明的吸附剂与有粘结剂的吸附剂相比,具有有效吸附量大、耐高温及有机溶剂侵蚀、在吸附分离中能避免因粘结剂带来的一些不良副作用等优点。

主权项:1.一种高硅无粘结剂沸石吸附剂,其特征在于,所述高硅无粘结剂沸石吸附剂的结构特征为具有FER型沸石的结构类型,其氧化硅与氧化铝的摩尔比为261,高硅无粘结剂沸石吸附剂耐压强度为57.6NCM;所述FER型沸石的XRD粉末衍射具有5个特征衍射峰,其衍射角分别为9.5°、12.91°、15.91°、22.54°、25.34°;所述FER型沸石的XRD粉末衍射各特征衍射峰的面间距值(d值)分别为,当衍射角为9.5°时,其面间距为9.30,当衍射角为12.91°时,其面间距为6.86,当衍射角为15.91°时,其面间距为3.44,当衍射角为22.54°时,其面间距为3.95,当衍射角为25.34°时,其面间距为3.51;所述FER型沸石衍射角为9.5°时,其面间距为9.30,其衍射峰强度最强;所述高硅无粘结剂沸石吸附剂的制备方法,包括,步骤S1,以硅溶胶为粘结剂、田菁粉为助挤剂,分别称取一定量FER分子筛原粉、二氧化硅含量为40%的成型用硅溶胶、并加少量田菁粉混合均匀制成第一混合物;步骤S2,向第一混合物中加入适量的水将第一混合物揉至成合适粘稠度的团状物,将团状物置于挤条机中挤成3mm直径的条状物,在120℃温度条件下保持12h,制成FER吸附剂的条状前驱体;步骤S3,称取一定量正丙胺与水混合液倒入高压反应釜中,同时将一定量的前驱体置于所述高压反应釜液体上方的网篮中;步骤S4,将所述高压反应釜置于160℃烘箱中恒温反应48h,在水热条件下,前躯体中硅溶胶粘结剂在FER沸石原粉的诱导下转晶为FER沸石,待高压反应釜自然冷却至室温后将前驱体取出,水煮、烘干、焙烧即制得高硅无粘结剂沸石吸附剂;所述步骤S1中,各原料重量比为,FER分子筛原粉:硅溶胶干基:田菁粉=4:1:0.16;所述步骤S3中,各物料的重量比为前驱体:正丙胺:水=1:1.004:5.395。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 复榆(张家港)新材料科技有限公司 一种无粘结剂亚中孔高硅FER沸石吸附剂及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。