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申请/专利权人：杭州南河新能源科技有限公司
摘要：本发明涉及硅片加工领域，尤其涉及一种硅片抛光牺牲剂，其包括可固化有机聚硅氧烷类材料以及速率控制剂。本发明中的牺牲剂其够将硅片表面的最高点以及硅片表面的最低点之间的区域先填平，由于这一层牺牲层也同样能够与抛光液反应，因此在硅片抛光过程中能够控制硅片从最高点逐渐腐蚀到最低点，最终形成一个表面深度一致，光滑平整的抛光面，有效解决了传统化学抛光方法对硅片表面腐蚀深度难以控制的问题。
主权项：1.一种硅片抛光牺牲剂，其特征在于，包括可固化有机聚硅氧烷类材料以及腐蚀速率控制剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州南河新能源科技有限公司 一种硅片抛光牺牲剂
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