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一种MEMS硅基雾化芯及其制造方法 

申请/专利权人:美满芯盛(杭州)微电子有限公司

申请日:2021-09-02

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN113662250B

主分类号:A24F40/10

分类号:A24F40/10;A24F40/46;A24F40/40;A24F40/42

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2021.12.07#实质审查的生效;2021.11.19#公开

摘要:本发明公开了一种MEMS硅基雾化芯,其包括第一衬底和第二衬底,所述第一衬底上设置有若干雾化孔,所述雾化孔贯穿所述第一衬底,所述第一衬底的一侧设置有横向微流道储液舱,若干所述雾化孔均与所述横向微流道储液舱相连通,所述第一衬底的另一侧设置有金属电极,所述金属电极上连接有电阻丝;所述第二衬底连接在所述第一衬底上,所述第二衬底上设置与若干通孔,所述通孔贯穿所述第二衬底的上下表面,所述通孔连通所述横向微流道储液舱,所述通孔与所述雾化孔错位布置。本发明还公开了一种MEMS硅基雾化芯制造方法。本发明可以解决陶瓷雾化芯多孔孔径不一致,导致加热不均匀、局部过热干烧碳化的问题。

主权项:1.一种MEMS硅基雾化芯,其特征在于,包括第一衬底1和第二衬底2,所述第一衬底1上设置有若干雾化孔3,所述雾化孔3贯穿所述第一衬底1,所述第一衬底1的一侧设置有横向微流道储液舱4,若干所述雾化孔3均与所述横向微流道储液舱4相连通,所述第一衬底1的另一侧设置有金属电极5,所述金属电极5上连接有电阻丝;所述第二衬底2连接在所述第一衬底1上,所述第二衬底2上设置与若干通孔6,所述通孔6贯穿所述第二衬底2的上下表面,所述通孔6连通所述横向微流道储液舱4,所述通孔6与所述雾化孔3错位布置,所述第一衬底1的厚度为10μm,所述雾化孔3的孔径为2μm,所述横向微流道储液舱4的高度为1μm。

全文数据:

权利要求:

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