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离子感应物质及使用其的离子感应膜以及该离子感应物质的制造方法 

申请/专利权人:松下知识产权经营株式会社

申请日:2021-05-20

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN113717386B

主分类号:C08G77/14

分类号:C08G77/14;C08J5/18;C08L83/06;G01N27/333

优先权:["20200525 JP 2020-090602"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2023.03.03#实质审查的生效;2021.11.30#公开

摘要:一种离子感应物质,其包含冠醚结构,所述冠醚结构包含下述式a所示的重复单元,‑CR1R2‑CR3X‑O‑···a式中,X为在末端具有烷氧基甲硅烷基的有机基团,R1、R2和R3为氢或烃基上述冠醚结构中的烷氧基甲硅烷基的一部分或全部可以被水解而构成硅烷醇基。

主权项:1.一种离子感应物质,其包含冠醚结构,所述冠醚结构包含下述式a所示的重复单元,-CR1R2-CR3X-O-···a式a中,X为在末端具有烷氧基甲硅烷基的有机基团,R1、R2和R3为氢或烃基,X用下述式b表示,-CH2O-Y···b式b中,Y用下述式d表示,CnH2n-2m-4fSiR53-gOR6g···d式d中,R5和R6在每次出现时各自独立地为甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、戊基、异丁基、己基、苯基、环己基中的任意者,R5与R6可以相同也可以不同,n为0以上且8以下的整数,在用CnH2n-2m-4f表示的烃中,m为该烃中的双键数与环结构数的合计,f为该烃中的三键数,g为1以上且3以下的整数,式a的重复的次数为4以上且10以下,所述冠醚结构中的烷氧基甲硅烷基的一部分或全部任选被水解而构成硅烷醇基,所述冠醚结构为包含源于第1化合物的部分的聚合物,所述第1化合物具有环氧基且在末端具有烷氧基甲硅烷基,所述聚合物是所述环氧基通过碱金属盐或第2族元素的盐开环而聚合成环状的聚合物。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 松下知识产权经营株式会社 离子感应物质及使用其的离子感应膜以及该离子感应物质的制造方法

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