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申请/专利权人：成都华大九天科技有限公司
申请日：2022-10-10
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN115630212B
主分类号：G06F16/909
分类号：G06F16/909;G06F16/901;G06F30/392
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.07.05#授权;2023.02.14#实质审查的生效;2023.01.20#公开
摘要：为了快速查找版图中是否存在设计不合理的地方导致的相邻图形着色相同冲突，本发明公开了一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索方法及装置，包括：对所找到的各版图区块的节点拓扑图中的每个冲突连接的左右两端进行广度优先遍历，以针对各冲突连接试图找到一条着色冲突路径，若判定为找到一条着色冲突路径，则将这个着色冲突路径经过的冲突连接识别并设定为有效冲突连接，从所述有效冲突连接的两端开始，分别广度优先遍历到能到达的所有人为着色点，并记录到达的所有人为着色点的路径，标记到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。
主权项：1.一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，包括：S01：对二着色后的各版图区块的节点拓扑图进行遍历处理，以寻找各版图区块的节点拓扑图中的所有的冲突连接，其中，针对各版图区块的节点拓扑图，设定为：1当两个图形之间距离小于阈值时，这两个图形之间存在连接；2当着色之后两个有连接的图形着色结果相同，那么这两个图形之间的连接为冲突连接；S02：对所找到的各版图区块的节点拓扑图中的每个冲突连接的左右两端进行广度优先遍历，以针对各冲突连接试图找到一条着色冲突路径，其中，所述着色冲突路径满足下列条件：a路径两端为人为指定着色点，中间无人为着色点；b路径至少经过一个冲突连接；c路径内部不能重复经过一个图形；S03：若判定为通过步骤S02找到一条着色冲突路径，则将这个着色冲突路径经过的冲突连接识别并设定为有效冲突连接；以及S04：从所述有效冲突连接的两端开始，分别广度优先遍历到能到达的所有人为着色点，并记录到达的所有人为着色点的路径，标记到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 成都华大九天科技有限公司 一种全体冲突路径图形搜索方法、装置及存储介质
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