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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日：2023-01-04
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118295201A
主分类号：G03F1/36
分类号：G03F1/36;G03F7/20;G03F1/72;G03F9/00;G03F1/42
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：获取待修正版图，待修正版图包括若干主图形和位于各主图形周围的若干待修正散射条；对待修正版图进行模拟曝光处理，获取与待修正版图对应的模拟曝光版图，模拟曝光版图包括由待修正散射条曝光产生的初始冗余图形；将模拟曝光版图与待修正版图进行组合以获取探测版图，探测版图内的各待修正散射条的轮廓包括若干相连的待测边；根据初始冗余图形在探测版图内获取探测区，初始冗余图形位于探测区内，位于探测区内或与探测区的边缘相交的待测边为标记边；对各标记边进行若干次修正，使各标记边所在的待修正散射条尺寸缩小以获取修正散射条，利于建立散射条和冗余图形之间的关联，以及后续的冗余图形的消解工作。
主权项：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：获取待修正版图，所述待修正版图包括若干主图形和位于各主图形周围的若干待修正散射条；对所述待修正版图进行模拟曝光处理，获取与所述待修正版图对应的模拟曝光版图，所述模拟曝光版图包括由所述待修正散射条模拟曝光产生的初始冗余图形；将所述模拟曝光版图与所述待修正版图进行组合以获取探测版图，所述探测版图内的各所述待修正散射条的轮廓包括若干相连的待测边；根据所述初始冗余图形在所述探测版图内获取探测区，所述初始冗余图形位于所述探测区内，位于探测区内或与所述探测区的边缘相交的待测边为标记边；对各所述标记边进行若干次修正，使各所述标记边所在的待修正散射条尺寸缩小以获取修正散射条。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光学邻近修正方法
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