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申请/专利权人：中国科学院化学研究所
摘要：本发明涉及一种含两种锍鎓盐的光刻胶组合物及其制备方法和应用。该光刻胶组合物可以与带有环氧基团的化合物组成负性光刻胶，在基片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可用于极紫外光刻及电子束光刻等现代光刻技术中，尤其适用于电子束光刻工艺中。
主权项：1.一种光刻胶组合物，包括式I和式II所示的化合物： 其中，式I中，R1、R2、R3相同或不同，彼此独立地选自H、C1-8烷基、C6-20芳基，且R1、R2、R3中至少有一个选自C1-8烷基或H；X1-选自强酸阴离子，例如Cl-、BF4-、PF6-、AsF6-、SbF6-；式II中，R4、R5、R6相同或不同，彼此独立地选自H、C1-8烷基、C6-20芳基；且R4、R5、R6中至少有一个选自C6-20芳基；X2-选自弱酸阴离子，例如CF3SO3-、CF3CF2CF2CF2SO3-、C10H15O4S-樟脑磺酸阴离子、OH-。
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权利要求：
百度查询： 中国科学院化学研究所 一种含两种锍鎓盐的光刻胶组合物及其制备方法和应用
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