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申请/专利权人：武汉科技大学
申请日：2024-05-14
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118287321A
主分类号：B05C1/08
分类号：B05C1/08;B05C9/04
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本发明公开了一种提高取向硅钢表面涂层均匀度的涂层辊系，涉及钢铁冶金技术领域。包括上涂层辊、下涂层辊及升降装置。所述上、下涂层辊的形状尺寸相同。两个辊颈与一个辊筒焊接形成空腔结构，辊筒表面是向外凸起的弧形体。辊筒表面覆盖一层厚为20～25mm的橡胶层。上、下涂辊的橡胶硬度不同，所述橡胶层的表面带有微型刻槽，橡胶层表面刻槽分成中部区域和端部区域两部分，中部区域刻槽尺寸较大，端部区域刻槽尺寸较小。本发明延长了涂层辊的使用寿命，提高涂层辊在硅钢表面上的涂覆均匀度。
主权项：1.一种提高取向硅钢表面涂层均匀度的涂层辊系，其特征在于，包括上涂层辊、下涂层辊及升降装置6，带钢1位于上涂层辊和下涂层辊之间，所述上涂层辊、下涂层辊的形状尺寸相同，升降装置6能够驱动下涂层辊上下移动，从而使下涂层辊靠近或者远离上涂层辊。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉科技大学 一种提高取向硅钢表面涂层均匀度的涂层辊系
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