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申请/专利权人：江西锦荣新材料有限公司
摘要：本发明公开了一种高Tg覆盖膜的制备方法，涉及微电子材料领域，包括以下步骤：步骤一、材料准备，将裁剪好的聚酰亚胺薄膜堆叠在一个存放框中，该存放框移入底座一侧的推放槽中，并将制备后的粘接剂倒入箱体中；步骤二、粘接剂涂覆，启动装置后，一个吸取组件中的第一吸板下移，将存放框中最上层的聚酰亚胺薄膜吸附后复位，并进行水平移动至平移组件的第二吸板上方，步骤三、收集及压合，另一个吸取组件将涂覆后的薄膜转移至另一个存放框中，本申请通过对裁剪后的薄膜进行平移，经过喷雾器下方时将粘接剂喷涂在薄膜表面，并进行固化，进而避免与薄膜表面产生摩擦力，防止磨损现象的发生，确保覆盖膜的性能。
主权项：1.一种高Tg覆盖膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤一、材料准备，将裁剪好的聚酰亚胺薄膜堆叠在一个存放框3中，该存放框3移入底座1一侧的推放槽101中，并将制备后的粘接剂倒入箱体7中；步骤二、粘接剂涂覆，启动装置后，一个吸取组件4中的第一吸板401下移，将存放框3中最上层的聚酰亚胺薄膜吸附后复位，并进行水平移动至平移组件5的第二吸板501上方，然后下移，此时第一吸板401的吸附由第二吸板501进行吸附，接着进行水平移动，在经过涂覆组件8的喷雾器802下方后完成粘接剂的涂覆，并由加热板1002进行固化处理；步骤三、收集及压合，另一个吸取组件4将涂覆后的薄膜转移至另一个存放框3中，在堆叠满后工作人员拉出并采用覆贝机进行离型纸的压合，完成高Tg覆盖膜的制备。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江西锦荣新材料有限公司 一种高Tg覆盖膜的制备方法
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