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申请/专利权人：武汉凡谷电子技术股份有限公司
申请日：2023-10-16
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN221239779U
主分类号：H01P1/20
分类号：H01P1/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权
摘要：本实用新型提供了一种交叉耦合结构，包括腔体和盖板，所述腔体内设有至少两个谐振杆，相邻两个谐振杆之间设有耦合窗口，耦合窗口上安装有飞杆调节组件，飞杆调节组件包括飞杆座和调节螺杆，飞杆座固定安装于耦合窗口上，飞杆座顶部设有螺纹孔，盖板上设有供调节螺杆穿过的光孔，盖板上表面设有与调节螺杆相配合的螺母，盖板与螺母之间设有弹性垫圈，弹性垫圈套装于调节螺杆上。该实用新型采用飞杆座与螺母夹紧盖板的方式形成固定结构，设计调节螺杆与飞杆座螺纹连接进行调试，并且利用弹性垫圈在调试过程中提供电气导通和盖板防护作用，从而盖板上只需做光孔方便调节螺杆穿入即可，解决了现有薄盖板或复合板上设置螺纹长度不足的问题。
主权项：1.一种交叉耦合结构，其特征在于：包括腔体和盖合于腔体上的盖板，所述腔体内设有至少两个谐振杆，相邻两个所述谐振杆之间设有耦合窗口，所述耦合窗口上安装有飞杆调节组件，所述飞杆调节组件包括飞杆座和调节螺杆，所述飞杆座固定安装于所述耦合窗口上，所述飞杆座顶部设有与调节螺杆相配合的螺纹孔，所述盖板上设有供所述调节螺杆穿过的光孔，所述盖板上表面设有与调节螺杆螺纹连接的螺母，所述盖板与所述螺母之间设有弹性垫圈，所述弹性垫圈套装于所述调节螺杆上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉凡谷电子技术股份有限公司 一种交叉耦合结构
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